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PID现象和电池片表面的减反射膜的折射率有关,提高反射层的折射率可以有效地降低PID现象的发生。文章研究的主要内容是在不提高生产成本并且基本不降低效率的情况下,通过调整沉积时间与气体流量,来提升电池片的折射率至2.13,以达到抗PID目的。
抗PID工艺对多晶电池片表面质量的影响
【摘 要】
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PID现象和电池片表面的减反射膜的折射率有关,提高反射层的折射率可以有效地降低PID现象的发生。文章研究的主要内容是在不提高生产成本并且基本不降低效率的情况下,通过调整
【机 构】
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山西潞安太阳能科技有限责任公司
【出 处】
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科技创新与应用
【发表日期】
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2014年35期
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