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利用射频辅助脉冲激光沉积技术，研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明：退火处理更有利于ZnS薄膜的发光。
退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响
【摘 要】
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利用射频辅助脉冲激光沉积技术，研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响。利用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对制备样品的结构、形貌特性进行了表征。结果表明：退火处理更有利于
【机 构】
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武汉工业学院数理科学系,河南省上蔡县第一高级中学
【出 处】
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武汉工业学院学报
【发表日期】
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2008年4期
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