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化学机械抛光后的硅片,都会在去离子水中浸泡一段时间才会做后面的最终清洗。但浸泡时间和浸泡条件会影响到最终的清洗效果。本文研究了不同浸泡条件下,硅片经过最终清洗后表面颗粒的变化。
硅片化学机械抛光后存放方法探讨
【摘 要】
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化学机械抛光后的硅片,都会在去离子水中浸泡一段时间才会做后面的最终清洗。但浸泡时间和浸泡条件会影响到最终的清洗效果。本文研究了不同浸泡条件下,硅片经过最终清洗后表
【机 构】
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有研半导体材料有限公司
【出 处】
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物理化学进展
【发表日期】
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2018年4期
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