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综述了真空荧光显示器件的发展现状；分析了发光材料、器件制作工艺和相关技术中存在的问题，并简析了今后的发展动态。
突破障碍发展真空荧光显示器件
【摘 要】
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综述了真空荧光显示器件的发展现状；分析了发光材料、器件制作工艺和相关技术中存在的问题，并简析了今后的发展动态。
【机 构】
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杭州大学荧光显示研究所
【出 处】
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现代显示
【发表日期】
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1996年2期
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