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本研究对正常人牙釉质和釉质早期龋损的标本采用氩离子束减薄技术(Dual Ion Mill 600,Gaton)制备超薄片,其超薄区厚度为200～100(?)。应用透射电镜(JEOL,JEM-200cx,电压200kv)作一般观察和高分辨率分析,并辅之以扫描电镜、能谱分析等方法进行了研究。 (一) 正常人牙釉质釉质内釉柱横截面呈“覃样”,可分