【摘 要】
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首先采用真空热蒸发法在玻璃基片上沉积厚度约为500 nm的铁膜,然后对铁膜在温度为553～673 K的条件下恒温硫化6 h,制备FeS2薄膜.对制备的薄膜进行X射线衍射和显微结构分析,发现
【基金项目】
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福建省教育厅科研基金资助项目（JA03009,JB04046）,福州大学科技发展基金项目（2005-XY-14）
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首先采用真空热蒸发法在玻璃基片上沉积厚度约为500 nm的铁膜,然后对铁膜在温度为553～673 K的条件下恒温硫化6 h,制备FeS2薄膜.对制备的薄膜进行X射线衍射和显微结构分析,发现：合适的硫化温度为603～653 K,所得薄膜为单一物相的FeS2薄膜,n（S）/n（Fe）值为1.94～1.96,接近理想化学配比,薄膜晶粒大小均匀,表面致密.
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