化学镀铜新工艺

来源 :华东理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gbqangel
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优化了以甲醛为还原剂,EDTA为络合剂的碱性化学镀铜的基本配方。探讨了铅、锰、镍、锌、钙、锶等金属离子及铵离子对镀速和镀层耐磨损性能、耐剥离性能的影响。结果表明,铅离子的加入在基本不影响镀速的情况下,大大提高了镀层的耐磨损性能和耐剥离性能。还研究了在不同温度条件的热处理对化学镀铜层抗氧化能力和耐磨损性能的影响。 The basic formulation of basic electroless copper plating with formaldehyde as reductant and EDTA as complexing agent was optimized. The effects of lead, manganese, nickel, zinc, calcium, strontium and other metal ions and ammonium ions on the plating speed, coating wear resistance and peel resistance were discussed. The results show that the addition of lead ions in the case does not affect the plating rate, greatly improving the coating wear resistance and peel resistance. The effects of heat treatment under different temperature conditions on the oxidation resistance and wear resistance of electroless copper plating were also studied.
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