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在超高速发射技术研究中,缓冲层材料起着十分重要的作用。本文通过数值计算,分析了TPX缓冲层材料厚度对高阻抗钽飞片超高速发射速度的影响,给出了最优的缓冲层材料厚度,对于0.3mm和0.5mm的钽飞片,选取不同厚度的TPX缓冲层材料,钽飞片中心速度的相对误差达到约5％～6％；为了比较不同缓冲层材料对钽飞片速度的影响,文中还给出了相同厚度TPX和Lexan缓冲层材料下钽飞片中心速度和压力历史的二维计算结果。