【摘 要】
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HNA溶液(又称乙酸、氢氟酸、硝酸的混合溶液)作为刻蚀液,一般用于硅的各向同性湿法刻蚀程序中,而耐刻蚀性很好的氮化硅常被用作顶层掩膜材料.我们通过选择不同的刻蚀液配比,
【机 构】
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HNA溶液(又称乙酸、氢氟酸、硝酸的混合溶液)作为刻蚀液,一般用于硅的各向同性湿法刻蚀程序中,而耐刻蚀性很好的氮化硅常被用作顶层掩膜材料.我们通过选择不同的刻蚀液配比,以便在硅片刻蚀不同的结构,配比不同,氮化硅掩膜的刻蚀速率各不相同.基于这种认识,本文用PECVD及LPCVD两种不同方法,在型硅片上沉积了560nm和210nm厚的氮化硅薄膜,在分析了它们在不同配比刻蚀液中的刻蚀速率的同时,为科学制作所需厚度的氮化硅掩膜提供科学化的参考.
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