功率密度对中频磁控溅射制备 AZO薄膜性能的影向

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利用中频磁控溅射法在普通玻璃衬底上沉积掺铝氧化锌(ZnO ∶ Al,简称AZO)薄膜,通过调整溅射功率密度参数得到沉积速率与功率密度之间的关系,制备了不同厚度的AZO薄膜.利用台阶仪、XRD、XPS、紫外可见分光光度计和Hall测试系统等方法研究了功率密度与厚度对AZO薄膜结构、组分、光学和电学性能的影响.实验结果表明,功率密度为4W/cm2、薄膜厚度为739nm时薄膜的综合性能较好,其电阻率为1.136×10-3Ω·cm,可见光区的平均透过率为90.5%.改善结晶质量能显著提高AZO薄膜的光电性能.
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