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抛光晶片缺陷检测是半导体材料生产和器件生产中的一个重要环节,晶片质量及器件成品率与缺陷检测的成功与否有着相当重要的关系.本文重点介绍了利用我国古代劳动人民发明的透光镜原理建立的抛光晶片激光无损缺陷检测技术和相应的仪器系统,并对一系列缺陷的测试和实验分析结果进行了相应的讨论.
半导体抛光晶片缺陷的光学无损检测研究
【摘 要】
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抛光晶片缺陷检测是半导体材料生产和器件生产中的一个重要环节,晶片质量及器件成品率与缺陷检测的成功与否有着相当重要的关系.本文重点介绍了利用我国古代劳动人民发明的透
【机 构】
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信息产业部电子第四十六研究所
【出 处】
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现代仪器
【发表日期】
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2001年3期
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