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以西瓜品种‘华抗王’无菌苗子叶作为外植体，以MS为基本培养基，对西瓜植株再生的条件进行了研究。结果表明：子叶芽诱导的最佳培养基为Ms＋6-BA3．0mg／L＋NAA0．1mg／L；最佳伸长培养基为MS＋IBA0．5mg／L＋6-BA1．0mg／L；最适宜的生根培养基为1／2MS＋IAA0．4mg／L。试验初步建立了适用于西瓜遗传转化的子叶再生体系。