优质高稳定性微晶硅薄膜的制备

来源 :四川大学学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：luobo330

【摘要】

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对以SiCl4和H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术在低温快速沉积优质高稳定性的微晶硅薄膜进行了研究.在低于250℃下,成功制备出了沉积速率高达0.28nm/s、晶

【作者】

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祝祖送张杰易明芳尹训昌闻军

【机构】

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安庆师范学院物理与电气工程学院

【出处】

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四川大学学报：自然科学版

【发表日期】

：

2016年1期

【关键词】

：

微晶硅薄膜光照稳定性均匀性 PECVD Microcrystalline silicon film Stability of light soaking

【基金项目】

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国家自然科学基金（11447197）,安徽省教育厅基金（AQKJ20148019）,安徽省自然科学基金（1608085MA21）

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对以SiCl4和H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术在低温快速沉积优质高稳定性的微晶硅薄膜进行了研究.在低于250℃下,成功制备出了沉积速率高达0.28nm/s、晶化度达80%以上的微晶硅薄膜.通过光照实验,表明该微晶硅薄膜光致电导率基本保持恒定;通过对气流分布进行调节,微晶硅薄膜的均匀性得到明显改善,均匀度高达95%.

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