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利用非平衡磁控溅射离子镀技术研究了不同氮气流量对TiN薄膜结构、摩擦性能、附着力及显微硬度的影响。研究结果表明：N2流量对TiN薄膜的择优取向有很大影响，N2流量较小时，TiN薄膜显示出{111}择优取向生长趋势，在N2流量为15sccm条件下沉积的TiN薄膜的（111）衍射峰强度最强，与之对应的薄膜硬度和膜基结合强度最高，耐磨性能也最好；N2流量的大小对TiN薄膜的沉积速率和摩擦系数影响显著，并随N2流量增加都有较明显的下降趋势。