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对塑料薄膜进行低温等离子体表面处理，磁控溅射Ni-Cr过渡层、Cu植晶层后再电镀，所得镀层致密且结合力好。讨论了等离子体处理时间、磁控溅射过渡层和植晶层对后续镀层结合力的影响。指出了镀镍的工艺条件控制对镀层应力的影响。采用该工艺制备的屏蔽材料质量轻、价格低、有较好的机械性能，在电磁屏蔽领域应用广泛。