Ni离子注入SiO2的表面形貌和光学吸收性能研究

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室温下,将能量为60keV,剂量范围在1×10^16-1×10^17/cm^2的Ni离子注入到SiO2中。随后将样品在Ar气中退火(400—1000℃)。采用原子力显微镜(AFM),掠入射X射线衍射(GXRD),紫外-可见分光光度计(UV—Vis)对退火前后样品的表面形貌,Ni纳米颗粒的形成和热演变过程以及样品光吸收性能进行分析表征。结果表明:剂量为1×10^17/cm。的样品退火前后均未能形成纳米颗粒;剂量为5×10^16/cm^2和l×10^17/cm
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