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在化学镍金过程中会出现漏镀现象,文章讨论了漏镀产生的机理,采用正交实验法对影响漏镀的主要因素进行排列,同时,对于铜面与钯离子在进行置换反应时的电化学势能进行分析。结果表明,在调节活化钯相关参数的同时,反应中的电化学势能亦不容忽视。
印制电路板化学金漏镀浅析
【摘 要】
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在化学镍金过程中会出现漏镀现象,文章讨论了漏镀产生的机理,采用正交实验法对影响漏镀的主要因素进行排列,同时,对于铜面与钯离子在进行置换反应时的电化学势能进行分析。结
【机 构】
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梅州市志浩电子科技有限公司
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2013年S1期
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