【摘 要】
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通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究结果表明:随着退火时间的增加,薄膜开始晶化,
【机 构】
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西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室,
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通过制备Cu-Al-O薄膜并对其进行退火处理,研究了退火时间对薄膜形貌、结构以及紫外-可见透过率、带隙、中红外透过率的影响。研究结果表明:随着退火时间的增加,薄膜开始晶化,5.0 h时薄膜中出现裂纹,同时出现AlCu合金相;紫外-可见透过率随退火时间的增加而降低;中红外透过率随退火时间的增加先增加后降低;Cu-Al-O薄膜的直接带隙随退火时间的增加而降低。
The effects of annealing time on the morphology, structure, UV-Vis transmittance, band gap and mid-infrared transmittance of Cu-Al-O thin films were investigated by annealing and annealing. The results show that with the increase of annealing time, the film begins to crystallize and the cracks appear in the film at 5.0 h, and the AlCu alloy phase appears at the same time. The UV-Vis transmittance decreases with the increase of annealing time. The mid-infrared transmittance The increase of annealing time firstly increases and then decreases. The direct band gap of Cu-Al-O film decreases with the increase of annealing time.
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