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用 C—V 测量技术研究 HCl 氧化对表面态的影响新式16位微处理机之一——日本东芝公司的 TC5005型 CMOS 中央处理机一种具有 MNOS 型的高速 ESFISOS 可编程序逻辑阵列集成注入逻辑工艺硼扩散源及其在半导体器件中的应用等离子腐蚀概论采用离子注入的新腐蚀法
Impact of HCl Oxidation on Surface State Using C-V Measurement Technology One of the New 16-Bit Microprocessors - TC5005 CMOS Central Processing Unit from Toshiba Japan A High-Speed ESFISOS Programmable Logic Array with MNOS-Type Integrated Injection Logic Process boron diffusion source and its application in semiconductor devices Introduction to plasma etching New etching method using ion implantation