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808nm半导体激光器接触电阻的最佳工艺
808nm半导体激光器接触电阻的最佳工艺
来源 :长春光学精密机械学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:iswhat
【摘 要】
:
欧姆接触的好坏,对高功率半导体激光器至关重要降低接触电阻,有利于降低阈值,提高效率和延长寿命。为此,我们做了大量的实验,找到了降低欧姆接触电阻的最佳工艺条件,获得了小于0.06区域
【作 者】
:
王玉霞
任大翠
【机 构】
:
长春光学精密机械学院高功率半导体激光国家重点实验室
【出 处】
:
长春光学精密机械学院学报
【发表日期】
:
1997年4期
【关键词】
:
欧姆接触
接触电阻
半导体激光器
工艺
高功率
Ohmic contact
Contact resistance
Alloy
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欧姆接触的好坏,对高功率半导体激光器至关重要降低接触电阻,有利于降低阈值,提高效率和延长寿命。为此,我们做了大量的实验,找到了降低欧姆接触电阻的最佳工艺条件,获得了小于0.06区域的最低电阻。
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