论文部分内容阅读
本文介绍了用电子回旋共振（ＥＣＲ）Ｈ２／Ｎ２等离子体去除ＩｎＰ衬底表面的氧，碳原子的方法，并保持了ＩｎＰ衬底表面原有的有序结构，给出了这种处理方法的工艺条件，对这种方法的优越性进行了系统的分析和讨论，得出了一些有价值的结论。
InP衬底表面的H2／N2等离子体清洁技术
【摘 要】
：
本文介绍了用电子回旋共振（ＥＣＲ）Ｈ２／Ｎ２等离子体去除ＩｎＰ衬底表面的氧，碳原子的方法，并保持了ＩｎＰ衬底表面原有的有序结构，给出了这种处理方法的工艺条件，对这种方法的优越性进行了系统的分析和讨论，得
【机 构】
：
中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心
【出 处】
：
半导体学报
【发表日期】
：
1999年10期
其他文献
前已发现，将ＧａＡｓ（１００）晶片浸入Ｓ２Ｃｌ２或Ｓ２Ｃｌ２＋ＣＣｌ４溶液是实现ＧａＡｓ表面钝化的一种有效途径．用同步辐射光电子能谱研究这种表面能直接测量Ｓ２ｐ芯能级谱，从而揭示，在浸泡后的表面存在多种形态的含硫化合物．ＡｓｘＳｙ是其中的主要
本工作报道了一种光辅助湿法腐蚀半导体氮化物ＧａＮ的新方法。这一腐蚀技术具有简单，易控制和低损伤等优点。采用２００Ｗ汞灯辐照和ＮａＯＨ的溶液腐蚀可得到几百纳米／分的腐蚀速率，研究了影响腐蚀速
汉语副词“可”的种种译法河南大学李性让汉语的副词“可”是个多义词，而且很常用。语言环境不同，译成日语，其译法也各不相同。下面谈谈它的日语译法。一、表示能够这时，日语使用
想知道你所在的社区有哪些文化特色吗?想知道社区里的喜事、趣事、新鲜事、感人的事吗?想知道社区最近举办了哪些精彩的文体活动吗?走进社区,为你带来发生在社区的好玩事、暖
目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是RCA清洗技术，文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术，并利用X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法，分别
一、概述陕西国华锦界电厂二期2×600MW工程#3机组汽机发电机定子由上海汽轮发电机有限公司生产，定子的运输尺寸为：10．35×4．598×4．38m（长×宽×高），
本文用光致发光研究了ＭＯＣＶＤ生长的有序Ｇａ０．０５Ｉｎ０．５Ｐ外延层的光学性质，发现有序程度较强的Ｇａ０．５Ｉｎ０．５Ｐ样品的ＰＬ谱中，能量最高的峰的强度随温度升高，先减弱，然后增强，阳后又减弱。
本文首次使用分辨电子能量损失谱（ＨＲＥＥＬＳ）和紫外光电子能谱（ＵＰＳ）研究新腐蚀的多孔硅样品（ＰＳ）的电子结构，实验结果发现，从ＨＲＥＥＬＳ谱中能量损失阈值测得的多孔硅的能隙最可几值到２．９ｅＶ左右。与文献报道的光激发
比较了使用金刚石膜沉和传统的铜热沉的半导体激光二极管列阵在热阻和光输出功率方面的特性。与使用Ｃｕ热沉的器件相比，采用厚度烟３５０－４００μｍ，热导率在１２－１４Ｗ／（Ｋ．ｃｍ）的金刚石膜作为热沉的二极管列阵可使
多层金属布线互连技术是ＶＬＳＩ工艺中最重要的关键的技术这一。本文系统地研究了用于０．８μｍＣＭＯＳ ＶＬＳＩ的双层金属布线工艺技术，特别是对双层金属布线层间介质的平坦化，接触孔和通孔的低阻欧姆接触