【摘 要】
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通过分析现有镀膜工艺设备的电子束加热原理、结构和热量损耗，并针对实际应用过程中镀膜存在的问题，提出了对现有设备的改进措施，开发出一种新的镀厚膜工艺，较好解决了芯片镀厚膜
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通过分析现有镀膜工艺设备的电子束加热原理、结构和热量损耗，并针对实际应用过程中镀膜存在的问题，提出了对现有设备的改进措施，开发出一种新的镀厚膜工艺，较好解决了芯片镀厚膜的工艺技术难题和存在的镀厚膜工艺质量问题，大大提高了镀厚膜工艺的工作效率，极大地改善了特高压超大功率电力电子器件的电性能参数，收到了良好的效果。
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