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为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备，使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统．基于阿贝成像原理分析了周期结构在相干光照明下的成像过程，并用数值模拟以及空间滤波实验证明了这个过程．使用此实验系统制作出了周期为900nm的二维结构以及周期为数十微米的带缺陷结构．实验表明，使用数字微镜器件可以方便的制作出亚微米尺度的图案．