【摘 要】
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在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试
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在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价。然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质。最后,结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现,像素
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