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采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜,分析了ZnO薄膜的晶体结构和表面形貌。结果表明：所制备的ZnO薄膜是具有（002）晶面择优生长的多晶薄膜。溅射气压为0.3Pa时,薄膜的晶粒尺寸较大,结晶度提高。
溅射气压对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响
【摘 要】
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采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜,分析了ZnO薄膜的晶体结构和表面形貌。结果表明：所制备的ZnO薄膜是具有（002）晶面择优生长的多晶
【机 构】
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渤海大学数理学院
【出 处】
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渤海大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2011年1期
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