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溅射法制备SmS薄膜的XRD研究
溅射法制备SmS薄膜的XRD研究
来源 :武汉理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:czy239239
【摘 要】
:
分别采用Sm2S3的单靶溅射法和Sm-Sm2S3的双靶溅射法,于单晶Si基板上制备了常温常压下稳定存在的S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用卢瑟福背散射仪及薄膜X-射线衍射仪系统地研究了
【作 者】
:
黄剑锋
曹丽云
熊信伯
沈清
罗宏杰
金平
【机 构】
:
陕西科技大学,西北工业大学
【出 处】
:
武汉理工大学学报
【发表日期】
:
2003年5期
【关键词】
:
溅射
SmS薄膜
X-射线衍射
sputtering SmS thin film X-ray diffraction
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分别采用Sm2S3的单靶溅射法和Sm-Sm2S3的双靶溅射法,于单晶Si基板上制备了常温常压下稳定存在的S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用卢瑟福背散射仪及薄膜X-射线衍射仪系统地研究了基板温度和溅射功率对薄膜微晶结构的影响规律.
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