【摘 要】
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利用湿氧化法在单晶硅表面引入活性基团（Ｓｉ－ＯＨ），然后与１，２－二溴乙基三乙氧基硅烷及染料中间体进行多步化学反应，最终在单晶硅表面生成光敏染料２，２＇，菁衍生物，并对所得键合光敏染料硅片进行了椭偏
【机 构】
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西北大学化学系，西北大学电子科学系
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利用湿氧化法在单晶硅表面引入活性基团（Ｓｉ－ＯＨ），然后与１，２－二溴乙基三乙氧基硅烷及染料中间体进行多步化学反应，最终在单晶硅表面生成光敏染料２，２＇，菁衍生物，并对所得键合光敏染料硅片进行了椭偏参数、拉曼光谱及ｘ－射线光电子能谱的测试，结果表明光敏染料被键合在单晶硅表面．
The reactive oxygen species (Si-OH) is introduced into the surface of monocrystalline silicon by wet oxidation and then undergoes multi-step chemical reaction with 1,2-dibromoethyltriethoxysilane and dye intermediate. Finally, The photosensitized dye 2,2 ’, cyanine derivatives were obtained. The ellipsometric parameters, Raman spectra and x-ray photoelectron spectroscopy were also tested. The results showed that the photosensitizing dye was bonded to the single crystal Silicon surface.
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