【摘 要】
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考虑了非晶效应和非晶无序弹性散射的影响，通过ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ方法模拟电子在薄膜电致发光器件（ＴＦＥＬ）的ＳｉＯ２加速层的散射过程，从理论上描述了ＳｉＯ２层的加速作用与电流倍增效应，获得了电子平均能量与场强的关系
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考虑了非晶效应和非晶无序弹性散射的影响，通过ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ方法模拟电子在薄膜电致发光器件（ＴＦＥＬ）的ＳｉＯ２加速层的散射过程，从理论上描述了ＳｉＯ２层的加速作用与电流倍增效应，获得了电子平均能量与场强的关系曲线、电离率、电流倍增因子，与实验结果符合较好
Considering the influence of amorphous effect and amorphous random elastic scattering, the Monte Carlo simulation of the scattering process of electrons in the accelerating layer of SiO2 in thin film electroluminescent device (TFEL) is described theoretically on the acceleration of SiO2 layer and the current doubling Effect, obtained the electron average energy and field strength curve, ionization rate, current multiplication factor, in good agreement with the experimental results
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