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日本东北大学工学研究科纳米力学专业阎纪旺准教授及厨川常元教授的研究小组利用纳秒脉冲激光照射，成功完成了单晶硅加工变质层的完全修复。这是一种通过使用高频纳秒脉冲激光，同时完全消灭单晶硅加工物表面的非结晶层的单晶化和位错的方法。该方法有以下四个特征。（1）由于丝毫不剔除材料，底板的形状精度可维持原样；（2）可使用高频纳秒脉冲激光器在极短时间内修复；