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利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅片及9Cr18基体表面制备不同偏压下的掺钨含氢类金刚石碳膜。采用Ra—man光谱分析薄膜结构，采用纳米硬度测试仪和纳米划痕仪研究薄膜的纳米硬度、弹性模量和膜基附着力，在球一盘摩擦试验机上测试薄膜在大气环境中的摩擦学性能，研究薄膜的摩擦学性能与偏压的关系。结果表明：制备的薄膜样品均具有典型的类金刚石碳膜结构；基体偏压强烈影响薄膜的力学和摩擦学性能，薄膜硬度和弹性模量在0～150V范围内随着偏压增加而增大，薄膜的摩擦因数在偏压为100V时最小，在此参数下的耐磨寿命也最长。