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为提高硬X射线聚焦元件的聚焦性能,利用LIGA(Iihographie,Galvanofomiung,Abfomiung)技术,制备了深度为60μm的聚甲基丙烯酸甲醋(PMMA)材质硬X射线组合Kinafom透镜(CKL),并获得了良好的面形。制备的CKL以宽度为几个微米的细窄线条为主要结构,包括曲面和直角面形,线条最窄宽度为2μm。为保证CKL良好的曲面及直角结构,样品制备分为三部分:过渡掩模板的制备,LIGA掩模板的制备,以及最终样品的硬X射线曝光制备。在LIGA掩模板制备过程中,采用制备有纳米柱阵列