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本文就硅单晶外延片（１１１）面上层错腐蚀坑层显微图象和代表的腐蚀坑的形状作了分析研究，并对腐蚀坑的形成机理及其形成的规则作了讨论，且给出了实验技术上需注意的几个问题。
硅外延片（111）面层错腐蚀坑显微图象分析
【摘 要】
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本文就硅单晶外延片（１１１）面上层错腐蚀坑层显微图象和代表的腐蚀坑的形状作了分析研究，并对腐蚀坑的形成机理及其形成的规则作了讨论，且给出了实验技术上需注意的几个问题。
【机 构】
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山西师范大学物理系
【出 处】
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四川师范大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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1996年5期
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