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工艺缺陷引起霍尔器件功能失效
工艺缺陷引起霍尔器件功能失效
来源 :电子产品可靠性与环境试验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:emily9999
【摘 要】
:
通过对失效霍尔器件的分析,揭示了芯片金属电极脱边形成位移金属丝的工艺缺陷,导致桥接相邻内电极引起漏电或短路的失效机理.
【作 者】
:
徐爱斌
【机 构】
:
信息产业部电子第五研究所,电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室
【出 处】
:
电子产品可靠性与环境试验
【发表日期】
:
2005年4期
【关键词】
:
霍尔器件
工艺缺陷
功能失效
Hall device process defect functional failure
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通过对失效霍尔器件的分析,揭示了芯片金属电极脱边形成位移金属丝的工艺缺陷,导致桥接相邻内电极引起漏电或短路的失效机理.
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