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为了分析材料在低温下的陷阱能级，获得更多有关缺陷结构的信息，研制了一套由STM32微控制器为核心的低温热释光发光谱测量系统。设计了低温样品室，采用液氮冷却样品；STM32通过控制加热电流，实现样品以恒定速率升温，从而获得低温热释光发光曲线或三维热释光谱。温度测量范围为85~400 K，升温速率范围为0.1~10 K/s。设计了由STM32控制X射线及紫外光源的驱动电路，用于样品的激发。采用高灵敏度CCD实现对三维热释光谱的测量，采用单光子计数器获取二维热释光发光曲线。利用该系统测试了（Lu，Y）2SiO5