不同AlGaN层厚度的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的静态特性

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利用金属有机化合物气相外延技术研究了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)结构的外廷生长及器件制作,重点比较了具有不同AlGaN层厚度的HEMT器件的静态特性.实验发现具有较薄AlGaN隔离层的结构表现出较好的器件特性。栅长为1μm的器件获得了650mA/mm的最大饱和电流密度和100mS/mm的最大跨导。
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