【摘 要】
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考虑用CaF2材料制作投影光刻物镜可以明显提高其性能指标,本文研究了CaF2材料加工工艺的全流程,以实现CaF2材料的全频段高精度加工。首先,利用沥青抛光膜和金刚石微粉使CaF2
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心
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考虑用CaF2材料制作投影光刻物镜可以明显提高其性能指标,本文研究了CaF2材料加工工艺的全流程,以实现CaF2材料的全频段高精度加工。首先,利用沥青抛光膜和金刚石微粉使CaF2元件有较好的面形和表面质量。然后,优化转速、抛光盘移动范围、压力等加工工艺参数,并使用硅溶胶溶液抛光进一步降低CaF2元件的高频误差,逐渐去除加工中产生的划痕并且获得极小中频误差（Zernike残差）和高频粗糙度。最后,在不改变CaF2元件高频误差的同时利用离子束加工精修元件面形。对100mm口径氟化钙材料平面进行了加工和测试。结果表明:其Zernike 37项拟合面形误差RMS值可达0.39nm,Zernike残差RMS值为0.43nm,高频粗糙度均值为0.31nm,实现了对CaF2元件的亚纳米精度加工,为研发高性能深紫外投影光刻物镜奠定了良好基础。
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