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用磁控溅射法制备工作波长约８．０ｎｍ的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ的多层膜作为正入射短波长（λ〈１０．０ｎｍ）软Ｘ射线激光反射腔的反射镜，经Ｘ射线衍射仪和ＴＥＭ检测，多层膜周期结构准确，热稳定性高。
8.0nnX射线激光反射镜Mo／B4C多层膜制备及其特性
【摘 要】
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用磁控溅射法制备工作波长约８．０ｎｍ的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ的多层膜作为正入射短波长（λ〈１０．０ｎｍ）软Ｘ射线激光反射腔的反射镜，经Ｘ射线衍射仪和ＴＥＭ检测，多层膜周期结构准确，热稳定性高。
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所,大连铁道学院
【出 处】
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原子能科学技术
【发表日期】
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1999年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金,国家“863”项目
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