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采用化学镀技术,通过改变主盐、还原剂及络合剂的浓度以及操作条件,成功地制备了含W量为5.5％、含P量为12.3％的Ni-W-P合金镀层。其沉积速度为11μm/h。文中以化学镀镍基合金的电化学机理为依据,分析了影响镀层中W含量及P含量的因素
化学镀Ni—W—P三元合金的研究
【摘 要】
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采用化学镀技术,通过改变主盐、还原剂及络合剂的浓度以及操作条件,成功地制备了含W量为5.5％、含P量为12.3％的Ni-W-P合金镀层。其沉积速度为11μm/h。文中以化学镀镍基合金的电
【机 构】
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天津大学应用化学系,天津大学应用化学系邮编300072,邮编300072
【出 处】
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电镀与精饰
【发表日期】
：
1993年3期
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