【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Ga2O3含量为3wt.%的掺镓氧化锌透明导电薄膜（GZO）。通过X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、四探针测试仪、台阶仪、UV-Vis-N
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,江苏秀强玻璃工艺股份有限公司
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采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Ga2O3含量为3wt.%的掺镓氧化锌透明导电薄膜（GZO）。通过X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM）、四探针测试仪、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计研究了溅射时间对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响。结果表明,溅射时间为40 min时制备的GZO薄膜的光电综合性能最好,可见光区透过率峰值86%,方阻为16.4Ω/□,电阻率为1.18×10-3Ω·cm,性能指数ΦTC为4.73×10-3Ω-1
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