【摘 要】
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以硼氢化钾（KBH4）为还原剂、硫酸铜（CuSO4·5H2O）为前驱体，乙二胺四乙酸二钠（EDTA2Na）为络合剂，十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为反应场表面活性剂，KOH为pH值调节剂，制备纳米铜胶体．对影
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以硼氢化钾（KBH4）为还原剂、硫酸铜（CuSO4·5H2O）为前驱体，乙二胺四乙酸二钠（EDTA2Na）为络合剂，十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为反应场表面活性剂，KOH为pH值调节剂，制备纳米铜胶体．对影响纳米铜胶体粒径以及分散稳定性的因素进行了研究，结果表明：当CTAB，KOH，EDTA-2Na的用量分别为0．22，1．5，0．3～0．4mol／L时，纳米铜胶体的粒子粒径为30nm左右，胶体的分散稳定性较好；用该化学还原法可制备出最小粒径为1．09nm的纯净纳米铜．在聚乙烯吡咯烷酮（PV
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