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采用表面修饰技术，利用气敏元件表面覆膜方法，得到高选择性ＳｎＯ２半导体ＮＨ３敏感元件，并对元件的特性和机理进行了分析。
表面修饰提高SnO2氨气敏元件选择性的研究
【摘 要】
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采用表面修饰技术，利用气敏元件表面覆膜方法，得到高选择性ＳｎＯ２半导体ＮＨ３敏感元件，并对元件的特性和机理进行了分析。
【机 构】
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玉溪师专物理系
【出 处】
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思茅师范高等专科学校学报
【发表日期】
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1999年4期
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