【摘 要】
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<正> 美国VTI公司已经报道了硅晶片和砷化镓晶片残余晶体缺陷检验方面的突破。这个公司化了十七年时间研究超平表面光学元件的测量和制造,并且发展了一种能非破坏测量极平表
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<正> 美国VTI公司已经报道了硅晶片和砷化镓晶片残余晶体缺陷检验方面的突破。这个公司化了十七年时间研究超平表面光学元件的测量和制造,并且发展了一种能非破坏测量极平表面的激光装置,这种极平表面用现有技术是无法检验的。公司经理R.M.Silva说,该方法用来确定以Magnasmoth法抛光的硅光学元件的不太明显的表面缺陷。海军武器中心的J.Bennett已测量了一
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