【摘 要】
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采用高频等离子体化学气相沉积(PCVD)方法合成超纯石英玻璃,通过对化学反应、质量输送、穿越边界层、微粒沉积和玻璃熔融及气体解吸5个阶段的化学、物理机理的分析,提出了PCV
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采用高频等离子体化学气相沉积(PCVD)方法合成超纯石英玻璃,通过对化学反应、质量输送、穿越边界层、微粒沉积和玻璃熔融及气体解吸5个阶段的化学、物理机理的分析,提出了PCVD过程模型,计算各阶段所需时间,确定气体解吸阶段所需时间最长,为PCVD过程中的控制反应。控制先驱体四氯化硅流量,在沉积温度1 860℃、沉积速率97.5 g/h条件下成功制备出无宏观气泡的超纯石英玻璃,190 nm处光谱透过率达到84%,羟基含量≤5 ppm,可达到全光谱通过的要求。
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