微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铁硅铝磁芯中铝和硅

来源 :冶金分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户：smeie

【摘要】

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使用盐酸-硝酸-氢氟酸并采用微波消解法处理样品,选择Al 308.215nm和Si212.412nm作为分析线,基体匹配法配制标准溶液系列绘制校准曲线,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法（IC

【作者】

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吴永明陶武杨倩倩杜效王继龙郭飞飞

【机构】

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北京科技大学化学分析中心,钢铁研究总院

【出处】

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冶金分析

【发表日期】

：

2017年6期

【关键词】

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微波消解电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES) 铁硅铝磁芯铝硅 microwave digestion inductively coupled

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使用盐酸-硝酸-氢氟酸并采用微波消解法处理样品,选择Al 308.215nm和Si212.412nm作为分析线,基体匹配法配制标准溶液系列绘制校准曲线,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）测定铝和硅,从而建立了微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）测定铁硅铝磁芯中铝和硅的方法。结果表明,铝和硅的质量分数分别为1.00%~9.00%和2.50%~12.50%时与其发射强度呈线性,线性相关系数均不小于0.999 4;方法中铝和硅的检出限分别为0.020%和0.021%（质量

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