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曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向。
光刻机光强影响因素分析
【摘 要】
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曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响。通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2017年5期
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