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2014年6月24日，工业和信息化部公布了《国家集成电路产业发展推进纲要》，明确集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。
2014年11月3日，最高人民法院发布《最高人民法院关于北京、上海、广州知识产权法院案件管辖规定》，将布图设计纠纷案件列为知识产权法院的一审案件。
早在2001年，国家就颁布实施了《集成电路布图设计保护条例》（以下简称“条例”）及其实施细则（以下简称“细则”），赋予具有独创性的集成电路布图设计（以下简称“布图设计”）享有专用权。
以上政策及规定彰显了国家对集成电路产业的重视，然而，与轰轰烈烈的集成电路发展事业相比，在布图设计登记量逐年上升的同时，却少见布图设计侵权纠纷诉至法院，在整个司法活动中，与其他类型的知识产权案件相比，布图设计方面的案件则屈指可数。据不完全统计，自条例颁布实施14年来仅有6起诉讼发生。
本文将选取其中的两起布图设计诉讼案件进行简要介绍，并浅析IC设计企业应如何进行布图设计管理。
一、布图设计案件统计
限于篇幅，本文仅选取天明案和钜锐案进行简要介绍，并尝试总结案件对企业布图设计管理的启示。
二、天明案
（一）案情简介
1、起因
原告天微公司于2009年2月26日向国家知识产权局专利局（以下简称“国知局”）申请了名称为TM9936的布图设计登记，并于2009年5月13日获得了登记号为BS.09500108.5的登记证书。天微公司于2009年6月4日公证购买了明微公司SM9935B芯片，天微公司认为SM9935B芯片中的布图设计与其在国知局登记的布图设计相同，遂将明微公司起诉至法院，请求法院判令被告明微公司承担侵犯其布图设计专有权的民事责任，即停止复制该布图设计或生产、销售含有该布图设计的集成电路，并赔偿经济损失人民币50万元。
2、审理
针对原告天微公司的侵权指控，被告明微公司抗辩称，其生产、销售的SM9935BG片用的是其自主研发的布图设计，且该布图设计于2008年12月9日向国知局申请了布图设计登记并于2009年6月24日获得了登记证书，登记号为BS.08500671.8，该布图设计申请登记的时间早于原告天微公司的上述TM9936布图设计申请登记的时间，SM9935B芯片中的布图设计与原告天微公司登记的TM9936布图设计不同，请求法院驳回原告天微公司的诉讼请求。
本案证据交换后，原告天微公司提交了合同、发票等证据证明其涉案登记的布图设计在2007年9月就开始投入商业利用，因此，其对该布图设计专有权在2007年9月就开始享有，故即使被告明微公司销售的芯片中的布图设计与被告申请登记的布图设计相同，被告明微公司仍构成侵权。
广东省深圳市中级人民法院一审认为，本案天微公司申请了布图设计登记，并获得了国知局颁发的BS.09500108.5布图设计登记证书。但明微公司也申请了布图设计登记，并也获得了国知局颁发的BS.08500671.8布图设计登记证书。明微公司的BS.08500671.8布图设计申请登记时间早于天微公司BS.09500108.5布图设计申请时间2个多月，且经过技术鉴定比对，被控SM9935B芯片中的布图设计与明微公司在国知局申请登记的BS.08500671.8布图设计完全一致，因此，明微公司生产SM9935B芯片的行为，不侵犯天微公司BS.09500108.5布图设计专有权。法院判决驳回原告天微公司的诉讼请求。
一审宣判后，天微公司不服，向广东省高级人民法院提起上诉。二审判决维持原判。
（二）评析与思考
根据《条例》第八条的规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。《细则》第二十条规定，本布图设计专有权自申请日起生效。可见，我国对布图设计保护实行登记保护的原则，保护的起始时间为布图设计申请日。对布图设计专有权的保护期限，《条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日计算，以较前日期为准。值得特别注意的是，《条例》第十二条是对布图设计专有权保护期限的计算，并不是对布图设计专有权生效的起止时间的规定，布图设计申请人在申请日前并不享有布图设计专有权。
对于本案，按照上述规定，明微公司申请的BS.08500671.8布图设计专有权早于天微公司的BS.09500108.5布图设计专有权，根据鉴定结果，明微公司销售的SM9935B芯片中的布图设计与其在国知局备案的样品之布图设计完全一致，所以明微公司并未侵犯天微公司的布图设计专用权。
《条例》第十七条规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记，该规定也体现了立法督促权利人及时将布图设计予以登记的本意。试想如果天微公司在完成涉案布图设计后及时向国知局申请登记，本案也许会有不一样的结局。
本案直观的告诉企业IPRer，在布图设计创作完成后要及时到国知局进行登记，以免发生延迟登记导致权利无法受到保护的情形。
三、钜锐案
（一）案情简介
1、起因
2008年，钜泉从国知局获得了ATT7021AU的布图设计专有权。
2009年，钜泉发现锐能微研制的RN8209系列芯片，抄袭了钜泉的布图设计。更引起钜泉注意的是，锐能微的现任总经理和设计总监，居然是钜泉的离职员工。
2010年，钜泉将锐能微告上法庭，诉称锐能微生产的RN8209、RN8209G两颗芯片侵犯了钜泉ATT7021AU的布图设计专有权，请求赔偿经济损失1500万元。 2、审理
在诉讼过程中，锐能微坚称RN8209系列芯片的布图设计系自主开发，并认为钜泉的布图设计不具有独创性，属于常规设计。
对此，钜泉向一审法院提交了自己芯片中10个部分的“独创点”。经鉴定机构鉴定，得出的结论是钜泉提交的“10个独创点”中有2个点具有独创性。
一审法院判决锐能微构成侵权，赔偿钜泉经济损失320万元。双方不服均提起上诉。
锐能微认为钜泉公司的“2个独创点”属于常规设计，而且即便这2个点具有独创性，其在整个布图设计中的占比也不到1%，因此不构成实质性相似，不应当判定为侵权。
针对钜泉的“2个点”是否具有独创性，二审法院认为，钜泉已经对自己的“独创性”提供了权利登记证书，而且专利复审委经审查后也终止了撤销程序，维持布图设计登记有效，鉴定机构的结论也表明其布图设计中的“2个点”具有独创性。反之，锐能微提交的证据材料不足以证明其所称的“常规设计”之说，故法院认定钜泉“2个点”具有独创性。另外，法院认为，即使是占整个布图设计比例很小的非核心部分布图设计，其独创性也应得到法律保护。本案中，锐能微未经许可直接复制了钜泉公司布图设计中的“2个点”并进行商业销售，故构成侵权。
据此，二审法院作出了驳回上诉、维持原判的终审判决。
（二）评析与思考
钜锐案打造了布图设计侵权判定的“中国标准”，将布图设计侵权判定要件中的“实质性相似”量化为如下两点：
1、比对是在双方集成电路布图设计的相似部分之间进行，而不是去比较两个完整的布图设计。
2、即使是占整个集成电路布图设计比例很小的非核心部分布图设计，其独创性也应得到法律保护。
在案件审理过程中，法官问被告是否曾经对原告布图设计做过反向工程，被告回复没有。主审法官马剑峰在二审宣判后如是说：法律禁止直接复制通过反向工程获得的布图设计，自然更会禁止不通过反向工程直接复制权利人具有独创性的集成电路布图设计。
本案带给布图设计工程师如下启示：
1、不能抄袭他人享有布图设计专用权的集成电路布图设计的全部或局部。
2、日常设计工作中要注意保留开发记录、保留反向工程记录。
对于企业IPRer来说，应该及早将具有独创点的布图设计到国知局进行登记，哪怕独创点占整个布图设计的百分比很小。
四、总结
《集成电路布图保护条例》及其实施细则并非花瓶，只要巧妙运用，布图设计的保护力度不亚于专利保护，从判赔金额来看，甚至超过专利。IC企业在积极进行专利申请与布局的同时，不妨也从布图设计层面多寻求自身知识产权保护。
2014年11月3日，最高人民法院发布《最高人民法院关于北京、上海、广州知识产权法院案件管辖规定》，将布图设计纠纷案件列为知识产权法院的一审案件。
早在2001年，国家就颁布实施了《集成电路布图设计保护条例》（以下简称“条例”）及其实施细则（以下简称“细则”），赋予具有独创性的集成电路布图设计（以下简称“布图设计”）享有专用权。
以上政策及规定彰显了国家对集成电路产业的重视，然而，与轰轰烈烈的集成电路发展事业相比，在布图设计登记量逐年上升的同时，却少见布图设计侵权纠纷诉至法院，在整个司法活动中，与其他类型的知识产权案件相比，布图设计方面的案件则屈指可数。据不完全统计，自条例颁布实施14年来仅有6起诉讼发生。
本文将选取其中的两起布图设计诉讼案件进行简要介绍，并浅析IC设计企业应如何进行布图设计管理。
一、布图设计案件统计
限于篇幅，本文仅选取天明案和钜锐案进行简要介绍，并尝试总结案件对企业布图设计管理的启示。
二、天明案
（一）案情简介
1、起因
原告天微公司于2009年2月26日向国家知识产权局专利局（以下简称“国知局”）申请了名称为TM9936的布图设计登记，并于2009年5月13日获得了登记号为BS.09500108.5的登记证书。天微公司于2009年6月4日公证购买了明微公司SM9935B芯片，天微公司认为SM9935B芯片中的布图设计与其在国知局登记的布图设计相同，遂将明微公司起诉至法院，请求法院判令被告明微公司承担侵犯其布图设计专有权的民事责任，即停止复制该布图设计或生产、销售含有该布图设计的集成电路，并赔偿经济损失人民币50万元。
2、审理
针对原告天微公司的侵权指控，被告明微公司抗辩称，其生产、销售的SM9935BG片用的是其自主研发的布图设计，且该布图设计于2008年12月9日向国知局申请了布图设计登记并于2009年6月24日获得了登记证书，登记号为BS.08500671.8，该布图设计申请登记的时间早于原告天微公司的上述TM9936布图设计申请登记的时间，SM9935B芯片中的布图设计与原告天微公司登记的TM9936布图设计不同，请求法院驳回原告天微公司的诉讼请求。
本案证据交换后，原告天微公司提交了合同、发票等证据证明其涉案登记的布图设计在2007年9月就开始投入商业利用，因此，其对该布图设计专有权在2007年9月就开始享有，故即使被告明微公司销售的芯片中的布图设计与被告申请登记的布图设计相同，被告明微公司仍构成侵权。
广东省深圳市中级人民法院一审认为，本案天微公司申请了布图设计登记，并获得了国知局颁发的BS.09500108.5布图设计登记证书。但明微公司也申请了布图设计登记，并也获得了国知局颁发的BS.08500671.8布图设计登记证书。明微公司的BS.08500671.8布图设计申请登记时间早于天微公司BS.09500108.5布图设计申请时间2个多月，且经过技术鉴定比对，被控SM9935B芯片中的布图设计与明微公司在国知局申请登记的BS.08500671.8布图设计完全一致，因此，明微公司生产SM9935B芯片的行为，不侵犯天微公司BS.09500108.5布图设计专有权。法院判决驳回原告天微公司的诉讼请求。
一审宣判后，天微公司不服，向广东省高级人民法院提起上诉。二审判决维持原判。
（二）评析与思考
根据《条例》第八条的规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。《细则》第二十条规定，本布图设计专有权自申请日起生效。可见，我国对布图设计保护实行登记保护的原则，保护的起始时间为布图设计申请日。对布图设计专有权的保护期限，《条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日计算，以较前日期为准。值得特别注意的是，《条例》第十二条是对布图设计专有权保护期限的计算，并不是对布图设计专有权生效的起止时间的规定，布图设计申请人在申请日前并不享有布图设计专有权。
对于本案，按照上述规定，明微公司申请的BS.08500671.8布图设计专有权早于天微公司的BS.09500108.5布图设计专有权，根据鉴定结果，明微公司销售的SM9935B芯片中的布图设计与其在国知局备案的样品之布图设计完全一致，所以明微公司并未侵犯天微公司的布图设计专用权。
《条例》第十七条规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记，该规定也体现了立法督促权利人及时将布图设计予以登记的本意。试想如果天微公司在完成涉案布图设计后及时向国知局申请登记，本案也许会有不一样的结局。
本案直观的告诉企业IPRer，在布图设计创作完成后要及时到国知局进行登记，以免发生延迟登记导致权利无法受到保护的情形。
三、钜锐案
（一）案情简介
1、起因
2008年，钜泉从国知局获得了ATT7021AU的布图设计专有权。
2009年，钜泉发现锐能微研制的RN8209系列芯片，抄袭了钜泉的布图设计。更引起钜泉注意的是，锐能微的现任总经理和设计总监，居然是钜泉的离职员工。
2010年，钜泉将锐能微告上法庭，诉称锐能微生产的RN8209、RN8209G两颗芯片侵犯了钜泉ATT7021AU的布图设计专有权，请求赔偿经济损失1500万元。 2、审理
在诉讼过程中，锐能微坚称RN8209系列芯片的布图设计系自主开发，并认为钜泉的布图设计不具有独创性，属于常规设计。
对此，钜泉向一审法院提交了自己芯片中10个部分的“独创点”。经鉴定机构鉴定，得出的结论是钜泉提交的“10个独创点”中有2个点具有独创性。
一审法院判决锐能微构成侵权，赔偿钜泉经济损失320万元。双方不服均提起上诉。
锐能微认为钜泉公司的“2个独创点”属于常规设计，而且即便这2个点具有独创性，其在整个布图设计中的占比也不到1%，因此不构成实质性相似，不应当判定为侵权。
针对钜泉的“2个点”是否具有独创性，二审法院认为，钜泉已经对自己的“独创性”提供了权利登记证书，而且专利复审委经审查后也终止了撤销程序，维持布图设计登记有效，鉴定机构的结论也表明其布图设计中的“2个点”具有独创性。反之，锐能微提交的证据材料不足以证明其所称的“常规设计”之说，故法院认定钜泉“2个点”具有独创性。另外，法院认为，即使是占整个布图设计比例很小的非核心部分布图设计，其独创性也应得到法律保护。本案中，锐能微未经许可直接复制了钜泉公司布图设计中的“2个点”并进行商业销售，故构成侵权。
据此，二审法院作出了驳回上诉、维持原判的终审判决。
（二）评析与思考
钜锐案打造了布图设计侵权判定的“中国标准”，将布图设计侵权判定要件中的“实质性相似”量化为如下两点：
1、比对是在双方集成电路布图设计的相似部分之间进行，而不是去比较两个完整的布图设计。
2、即使是占整个集成电路布图设计比例很小的非核心部分布图设计，其独创性也应得到法律保护。
在案件审理过程中，法官问被告是否曾经对原告布图设计做过反向工程，被告回复没有。主审法官马剑峰在二审宣判后如是说：法律禁止直接复制通过反向工程获得的布图设计，自然更会禁止不通过反向工程直接复制权利人具有独创性的集成电路布图设计。
本案带给布图设计工程师如下启示：
1、不能抄袭他人享有布图设计专用权的集成电路布图设计的全部或局部。
2、日常设计工作中要注意保留开发记录、保留反向工程记录。
对于企业IPRer来说，应该及早将具有独创点的布图设计到国知局进行登记，哪怕独创点占整个布图设计的百分比很小。
四、总结
《集成电路布图保护条例》及其实施细则并非花瓶，只要巧妙运用，布图设计的保护力度不亚于专利保护，从判赔金额来看，甚至超过专利。IC企业在积极进行专利申请与布局的同时，不妨也从布图设计层面多寻求自身知识产权保护。