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可制造性设计（DFM）已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工县，它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查（LRC），可查出没被设计规则检查（DRC）出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中，用来优化设计规则，改善布局更有利光学邻近效应修正，使布局图形有更大的制程窗口。