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集成电路光刻工艺中,由于静电造成晶圆缺陷、电学失效或者低良率的情况时有发生。这是一种低成本的工艺方法（低功率等离子体轰击）,释放积聚在晶圆表面的静电,主要研究了静电产生的机制、降低静电损伤的效果和内在机制。
一种降低光刻工艺中静电损伤的方法
【摘 要】
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集成电路光刻工艺中,由于静电造成晶圆缺陷、电学失效或者低良率的情况时有发生。这是一种低成本的工艺方法（低功率等离子体轰击）,释放积聚在晶圆表面的静电,主要研究了静电产
【机 构】
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上海华虹宏力半导体制造有限公司
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2017年3期
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