论文部分内容阅读
采用SrO和SrTiO3作为缓冲层，用激光分子束外延在Si（100）衬底上成功地外延生长出La1-xSrxMnO3（x=0.1，0.2，0.3）（LSMO）单晶薄膜．锐而清晰的反射式高能电子衍射仪（RHEED）的衍射条纹和持久的RHEED强度振荡，表明LSMO薄膜是很好的二维层状外延生长，X射线衍射和高分辨透射电镜分析结果证明，在Si基底上获得了很好外延生长的LSMO薄膜，LSMO薄膜为C取向的单晶薄膜．并在室温条件下观测到很好的LSMO／Si P—n结I-V整流特性．参15