电化学沉积DLC膜及其表征

来源 :材料科学与工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：style_xo

【摘要】

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采用电化学沉积方法,甲醇有机溶剂作碳源,在直流电源作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.薄膜不溶于苯、丙酮等有机溶剂,具有较高的硬度(16GPa左右),用AFM、Raman和FTIR分析手

【作者】

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阎兴斌徐洮王博杨生荣

【机构】

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中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

【出处】

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材料科学与工程学报

【发表日期】

：

2003年5期

【关键词】

：

电化学沉积 DLC膜甲醇单晶硅硬度线性插入法类金刚石碳膜 electrochemical deposition DLC Raman XAES

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采用电化学沉积方法,甲醇有机溶剂作碳源,在直流电源作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.薄膜不溶于苯、丙酮等有机溶剂,具有较高的硬度(16GPa左右),用AFM、Raman和FTIR分析手段对该薄膜表面形貌和结构进行表征,Raman和FTIR结果表明电化学沉积得到的是含氢的类金刚石碳薄膜.通过研究样品薄膜的XPS和XAES谱图特征,进一步证实薄膜是DLC薄膜,并用线性插入法估算出样品薄膜中SP3的相对含量为60%,同时推测了电化学沉积DLC薄膜的生长机理.

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